Wet-Chemical Preparation of Silicon Tunnel Oxides for Transparent Passivated Contacts in Crystalline Silicon Solar Cells

材料科学 钝化 非晶硅 碳化硅 晶体硅 纳米晶硅 光电子学 电接点 异质结 氧化物 纳米技术 复合材料 图层(电子) 冶金
作者
Malte Köhler,Manuel Pomaska,Florian Lentz,F. Finger,Uwe Rau,Kaining Ding
出处
期刊:ACS Applied Materials & Interfaces [American Chemical Society]
卷期号:10 (17): 14259-14263 被引量:35
标识
DOI:10.1021/acsami.8b02002
摘要

Transparent passivated contacts (TPCs) using a wide band gap microcrystalline silicon carbide (μc-SiC:H(n)), silicon tunnel oxide (SiO2) stack are an alternative to amorphous silicon-based contacts for the front side of silicon heterojunction solar cells. In a systematic study of the μc-SiC:H(n)/SiO2/c-Si contact, we investigated selected wet-chemical oxidation methods for the formation of ultrathin SiO2, in order to passivate the silicon surface while ensuring a low contact resistivity. By tuning the SiO2 properties, implied open-circuit voltages of 714 mV and contact resistivities of 32 mΩ cm2 were achieved using μc-SiC:H(n)/SiO2/c-Si as transparent passivated contacts.
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