An X-band Low Noise Amplifier in 0.25- $\mu \mathrm{m}$ GaAs pHEMT Process

电阻器 低噪声放大器 噪声系数 高电子迁移率晶体管 电气工程 电感器 放大器 电容器 物理 拓扑(电路) 光电子学 电子工程 材料科学 计算机科学 晶体管 电压 工程类 CMOS芯片
作者
Yutao Jiang,Guodong Su,Cong Zhang,Jinjie Lv,Jun Li
标识
DOI:10.1109/icmmt55580.2022.10023269
摘要

This paper presents a 2-stage X-band low-noise amplifier (LNA). The self-biased common-source amplifier is employed as the core unit of this LNA. A resistor is introduced to improve the stability of this LNA. The method employing a resistor connected to bypass capacitor is proposed in this paper to improve the small-signal gain flatness. The source degeneration inductor is employed to improve the bandwidth of the presented LNA. This proposed LNA is fabricated in $0.25\text{-}\mu\mathrm{m}$ GaAs pHEMT process. The measurement results show that the small signal gain is of 13.5 dB, the flatness is less than $\pm 0.4\text{dB}$ over the whole operating frequency band. The post-layout simulation results show that the output 1 dB compression point is greater than 8 dBm, the typical noise figure is 2.5dB. The power consumption of the circuit is 180mW while the supply voltage is 5V. The whole area of the presented LNA is 2.0mm*1.2mm.
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