Chemical sputtering by H2+ and H3+ ions during silicon deposition

溅射 等离子体增强化学气相沉积 分析化学(期刊) 化学气相沉积 电极 离子 化学 沉积(地质) 溅射沉积 材料科学 薄膜 纳米技术 光电子学 物理化学 色谱法 生物 古生物学 有机化学 沉积物
作者
Kees Landheer,W. J. Goedheer,Ioannis Poulios,R.E.I. Schropp,J.K. Rath
出处
期刊:Journal of Applied Physics [American Institute of Physics]
卷期号:120 (5) 被引量:7
标识
DOI:10.1063/1.4960351
摘要

We investigated chemical sputtering of silicon films by Hy+ ions (with y being 2 and 3) in an asymmetric VHF Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition (PECVD) discharge in detail. In experiments with discharges created with pure H2 inlet flows, we observed that more Si was etched from the powered than from the grounded electrode, and this resulted in a net deposition on the grounded electrode. With experimental input data from a power density series of discharges with pure H2 inlet flows, we were able to model this process with a chemical sputtering mechanism. The obtained chemical sputtering yields were (0.3–0.4) ± 0.1 Si atom per bombarding Hy+ ion at the grounded electrode and at the powered electrode the yield ranged from (0.4 to 0.65) ± 0.1. Subsequently, we investigated the role of chemical sputtering during PECVD deposition with a series of silane fractions SF (SF(%) = [SiH4]/[H2]*100) ranging from SF = 0% to 20%. We experimentally observed that the SiHy+ flux is not proportional to SF but decreasing from SF = 3.4% to 20%. This counterintuitive SiHy+ flux trend was partly explained by an increasing chemical sputtering rate with decreasing SF and partly by the reaction between H3+ and SiH4 that forms SiH3+.
最长约 10秒,即可获得该文献文件

科研通智能强力驱动
Strongly Powered by AbleSci AI
更新
大幅提高文件上传限制,最高150M (2024-4-1)

科研通是完全免费的文献互助平台,具备全网最快的应助速度,最高的求助完成率。 对每一个文献求助,科研通都将尽心尽力,给求助人一个满意的交代。
实时播报
小二郎应助开心慕蕊采纳,获得10
1秒前
宏hong完成签到,获得积分20
3秒前
杨纯宇发布了新的文献求助10
3秒前
4秒前
阿咚完成签到,获得积分10
5秒前
太叔捕完成签到,获得积分10
9秒前
科研发布了新的文献求助10
10秒前
共享精神应助杨纯宇采纳,获得10
12秒前
大个应助背后的果汁采纳,获得10
13秒前
Jasper应助科研采纳,获得10
16秒前
16秒前
17秒前
18秒前
18秒前
学海无涯发布了新的文献求助10
20秒前
21秒前
羊六一发布了新的文献求助10
22秒前
23秒前
欧阳发布了新的文献求助10
24秒前
支妙芙完成签到,获得积分10
24秒前
25秒前
文静的丹南完成签到,获得积分10
25秒前
29秒前
alexyang发布了新的文献求助30
29秒前
宏hong发布了新的文献求助10
30秒前
30秒前
完美世界应助学海无涯采纳,获得10
32秒前
36秒前
赶论文关注了科研通微信公众号
41秒前
42秒前
randylch完成签到,获得积分10
42秒前
43秒前
芋泥关注了科研通微信公众号
43秒前
阿宁完成签到,获得积分10
45秒前
46秒前
47秒前
积极镜子关注了科研通微信公众号
49秒前
50秒前
潇洒一曲完成签到,获得积分10
50秒前
隐形秋完成签到 ,获得积分10
52秒前
高分求助中
请在求助之前详细阅读求助说明!!!! 20000
One Man Talking: Selected Essays of Shao Xunmei, 1929–1939 1000
The Three Stars Each: The Astrolabes and Related Texts 900
Yuwu Song, Biographical Dictionary of the People's Republic of China 700
[Lambert-Eaton syndrome without calcium channel autoantibodies] 520
Pressing the Fight: Print, Propaganda, and the Cold War 500
Bernd Ziesemer - Maos deutscher Topagent: Wie China die Bundesrepublik eroberte 500
热门求助领域 (近24小时)
化学 材料科学 医学 生物 有机化学 工程类 生物化学 纳米技术 物理 内科学 计算机科学 化学工程 复合材料 遗传学 基因 物理化学 催化作用 电极 光电子学 量子力学
热门帖子
关注 科研通微信公众号,转发送积分 2471096
求助须知:如何正确求助?哪些是违规求助? 2137808
关于积分的说明 5447354
捐赠科研通 1861761
什么是DOI,文献DOI怎么找? 925900
版权声明 562740
科研通“疑难数据库(出版商)”最低求助积分说明 495275