Asymmetric interface and growth mechanism in sputtered W/Si and WSi2/Si multilayers

材料科学 散射 透射电子显微镜 扩散 表面光洁度 凝聚态物理 放松(心理学) 表面粗糙度 衍射 结晶学 光学 纳米技术 复合材料 物理 化学 热力学 社会心理学 心理学
作者
Zehua Yang,Jingtao Zhu,Yunping Zhu,Hongxin Luo,Zhongliang Li,Hui Jiang,Li Zhao
出处
期刊:Applied Surface Science [Elsevier BV]
卷期号:604: 154531-154531 被引量:8
标识
DOI:10.1016/j.apsusc.2022.154531

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