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Tuning the electrical performance of metal oxide thin-film transistors via dielectric interface trap passivation and graded channel modulation doping
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作者
Zhiheng Wu,
Zhiqiang Yao,
Suilin Liu,
Bin Yuan,
Yake Zhang,
Yu Liang,
Zhuo Wang,
Xiaosheng Tang,
Guosheng Shao
出处
期刊：
Journal of Materials Chemistry C
[Royal Society of Chemistry]
日期：2016-12-30
卷期号：5 (5): 1206-1215
被引量：11
标识
DOI：10.1039/c6tc04709b
摘要
A novel strategy to achieve high performance thin-film transistors based on carrier concentration-graded InGaZnO channels using Al
2
O
3
-passivated HfO
2
as a dielectric layer was established.
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