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Growth of the intrinsic superlattice material Bi4Se3 by DC magnetron sputtering: Layered to faceted growth

材料科学 扫描隧道显微镜 溅射沉积 超晶格 扫描电子显微镜 溅射 能量色散X射线光谱学 光谱学 凝聚态物理 光电子学 纳米技术 薄膜 复合材料 物理 量子力学
作者
Joseph Corbett,Margaret Brown,Tobin C. Muratore,Ryan P. Laing,Jeff L. Brown,Joyeeta Gupta,Amber N. Reed
出处
期刊:Journal of vacuum science & technology [American Institute of Physics]
卷期号:39 (6): 063412-063412 被引量:2
标识
DOI:10.1116/6.0001359
摘要

The Bi 4Se 3 system is an intrinsic superlattice of two topological materials, a 2D Bi 2 sheet and a quintuple layer (QL) slab of Bi 2Se 3. Both the QL slab and 2D sheet host distinct topologically protected states; this, in turn, allows for the selection of the topologically protected electronic state with the choice of surface layer termination. The Bi 4Se 3 films were grown by direct current magnetron sputtering under an additional external magnetic field to further confine the plasma region. We developed a recipe to transition from an atomically smooth layered growth to a smooth faceted granular growth. We characterized the morphology, composition, and local crystal orientation of grown films via scanning electron microscopy, energy dispersive x-ray spectroscopy, and electron backscattered diffraction. Additionally, characterization by scanning tunneling microscopy/spectroscopy confirmed the presence of the topologically protected surface states in these films. This work buttresses the commercial scalability of sputtering materials with tunable Bi 4Se 3 morphology, which provides the option of tuning the surface topological state and thus expanding the possibilities for the production of devices with this material systems.

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