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Machine Learning for Deep Trench Bottom Width Measurements using Scatterometry : AM: Advanced Metrology

计量学 沟槽 表面计量学 光学 材料科学 地质学 轮廓仪 表面光洁度 物理 纳米技术 复合材料 图层(电子)
作者
Sasmita Srichandan,Franz Heider,Yulia Polak,Georg Ehrentraut,Laszlo Juhasz,Martin Haberjahn,E. Sakalauskas,Ronny Haupt
标识
DOI:10.1109/asmc57536.2023.10121130
摘要

We present a machine learning enhanced metrology method to measure the bottom width of deep trenches (about 42 µm in depth) using optical scatterometry. For this study, 2D line trenches as well as circular 3D trenches with varying trench side-wall angles were investigated. A combination of reference sets from SEM cross-sections, inline CD-SEM as well as depth measurements obtained from reflectance fringes are used to train the machine learning model. The results are cross verified against SEM cross-sections.
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