极紫外光刻
平版印刷术
材料科学
电子束光刻
光电子学
计算机科学
抵抗
纳米技术
图层(电子)
作者
Şafak Sayan,Scott Chegwidden,Joseph E. Rodriguez,Andrew R. Jamieson,Mahesh Chandramouli,Yuwei Li,Arvind Sundaramurthy,Bin Liu,M. J. Erickson,Vlad Liubich,Chang Ju Choi,Frank E. Abboud,Vikrant A. Chaudhari,Steve L. Carson,Mark Phillips
科研通智能强力驱动
Strongly Powered by AbleSci AI