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Investigation of the effect of adding a moderate amount of hydrogen on the properties of tin oxide films deposited by DC magnetron sputtering

锡 溅射沉积 腔磁控管 材料科学 氢 氧化物 溅射 氧化锡 分析化学（期刊） 冶金 化学工程 化学 薄膜 纳米技术 色谱法 有机化学 工程类
作者
Rostislav Velichko,Yusaku Magari,Hisao Makino,Mamoru Furuta
出处
期刊：Japanese Journal of Applied Physics 日期：2021-04-30 卷期号：60 (5): 055503-055503
标识
DOI：10.35848/1347-4065/abf49d
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