TCAD-Enabled Machine Learning—An Efficient Framework to Build Highly Accurate and Reliable Models for Semiconductor Technology Development and Fabrication

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作者
Paul Jungmann,Jeffrey B. Johnson,Eduardo C. Silva,William Taylor,Abdul Hanan Khan,Akash Kumar
出处
期刊:IEEE Transactions on Semiconductor Manufacturing [Institute of Electrical and Electronics Engineers]
卷期号:36 (2): 268-278
标识
DOI:10.1109/tsm.2023.3240033
摘要

The requirements on data-driven Machine Learning models for industrial applications are often stricter, compared to those used for academic purposes, as model reliability is critical in industrial environments. Herein is introduced a framework which enables automated data generation with the goal of efficiently providing a data set sufficient to build a reliable and actionable model. Essential to this framework is the placement of the model training/testing data points, which need to be well distributed across the defined input parameter space. The framework is applied to semiconductor fabrication, wherein TCAD, a set of simulation tools that reproduce the physical processing and the final electrical performance of semiconductor devices, is a well-established capability. Transistor-level processing data is reproduced with TCAD simulations, from which the Machine Learning model is built. The framework described here assures that the resulting Machine Learning model fulfills the accuracy requirements across the parameter space. As an example application, the final Machine Learning model is then used to modify the process for a transistor, to obtain both better electrical performance and reduced variability.
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