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An enhanced dry-wet hybrid cyclic etching method for high resistance Si (111) based AlInGaN/GaN heterojunction epitaxy: comparison on various etching process

异质结 材料科学 蚀刻（微加工） 光电子学 外延 干法蚀刻 过程（计算） 宽禁带半导体 纳米技术 计算机科学 图层（电子） 操作系统
作者
Guiyu Shen,Yulong Fang,He Guan
出处
期刊：2018 IEEE MTT-S International Wireless Symposium (IWS) 日期：2024-05-16 卷期号：: 1-3
标识
DOI：10.1109/iws61525.2024.10713580
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