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Microscopic removal mechanism of 4 H-SiC during abrasive scratching in aqueous H2O2 and H2O: Insights from ReaxFF molecular dynamics
6天前
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Micro-mechanisms of surface oxidation and material removal in photoelectrochemical mechanical polishing of 4H-SiC: Insights from ReaxFF-MD simulation
18天前
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Microscopic removal mechanism of 4 H-SiC during abrasive scratching in aqueous H2O2 and H2O: Insights from ReaxFF molecular dynamics
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