A Comparison of Low-Temperature Deposition for SiO2 in PECVD Using SiH4 and TEOS

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标题	A Comparison of Low-Temperature Deposition for SiO2 in PECVD Using SiH4 and TEOS
网址	https://iopscience.iop.org/article/10.1149/MA2023-02161172mt...
DOI	10.1149/ma2023-02161172mtgabs doi
其它	期刊：ECS Meeting Abstracts 作者：Yutaka Kusuda; Takahiro Miyashita; Yuki Asai; Hiroyuki Nishinaka 出版日期：2024-02-09
求助人	顺利映天在 2026-03-20 11:13:44 发布自江苏，悬赏 10 积分
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