| 标题 |
 Correlation between properties of direct current magnetron sputtered thin niobium nitride films and plasma parameters 直流磁控溅射氮化铌薄膜性能与等离子体参数的相关性
相关领域
薄膜
氮化铌
溅射沉积
材料科学
等离子体
分析化学（期刊）
朗缪尔探针
沉积（地质）
氮化物
等离子体参数
基质（水族馆）
溅射
光电子学
化学
等离子体诊断
纳米技术
图层（电子）
古生物学
地质学
物理
沉积物
海洋学
生物
色谱法
量子力学
|
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊：Thin Solid Films 作者：Richard Marquardt; Julia Cipo; Felix Schlichting; Gitanjali Kolhatkar; H. Kohlstedt; et al 出版日期：2021-12-11 |
| 求助人 | |
| 下载 | 暂无链接，等待应助者上传 |
|
温馨提示：该文献已被科研通 学术中心 收录，前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库，收集文献的基本信息（如标题、摘要、期刊、作者、被引量等），不提供下载功能。如需下载文献全文，请通过文献求助获取。
|
PDF的下载单位、IP信息已删除
GingerF
从容芮
唐泽雪穗
YifanWang
浮游
淡淡的南风
wop111
Arturo
eric888
GPTea
Zoom
Chloe
Takahara2000
VDC
19205100313
危机的妖妖
彩虹儿
Bio
无心的小蘑菇
Yini
不配.
AMM
SciGPT
Yan
你想读博吗
Xiaoxiao
mmyhn
Shuo
皖公网安备34019202002308
