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标题
Implementation of Band Gap and Gate Oxide Engineering to Improve the Electrical Performance of SiGe/InAs Charged Plasma-Based Junctionless-TFET
提高SiGe/InAs充电等离子体基无结TFET电性能的带隙和栅极氧化工程实现
相关领域
材料科学 氧化物 带隙 光电子学 等离子体 离子 量子隧道 导带 石墨烯 晶体管 隧道场效应晶体管 半导体 场效应晶体管 纳米技术 电气工程 电压 电子 物理 工程类 冶金 量子力学
网址
https://doi.org/10.1007/s12633-022-02111-w
DOI
10.1007/s12633-022-02111-w doi
其它 期刊：Silicon
作者：Kaushal Kumar; Ajay Kumar; Varun Mishra; S. C. Sharma
出版日期：2022-09-14
求助人
重组聚合酶扩增 在 2025-08-28 18:16:15 发布，悬赏 10 积分
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