Study on the Behaviors of HNO<sub>3</sub> in Highly Conductive Antimony Doped Tin Oxide Thin Films Deposited by Novel Mist CVD System

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标题	Study on the Behaviors of HNO<sub>3</sub> in Highly Conductive Antimony Doped Tin Oxide Thin Films Deposited by Novel Mist CVD System
网址	https://doi.org/10.7567/ssdm.2018.n-3-03
DOI	10.7567/ssdm.2018.n-3-03 doi
其它	期刊：Extended Abstracts of the 2018 International Conference on Solid State Devices and Materials 作者：L. Liu; T. Kawaharamura; M. Ueda; G.T. Dang; S. Sato; et al 出版日期：2020-09-01
求助人	tanlei 在 2026-01-29 13:33:49 发布自湖北，悬赏 10 积分
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