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标题
Total ionizing dose radiation hardening technology based on double-charge multiple-step ion implantation
基于双电荷多步离子注入的总电离剂量辐射硬化技术
相关领域
CMOS芯片 材料科学 光电子学 晶体管 绝缘体上的硅 阈值电压 吸收剂量 辐射硬化 离子注入 薄脆饼 辐照 辐射 电气工程 泄漏(经济) 电离辐射 电压 离子 化学 光学 物理 工程类 经济 有机化学 核物理学 宏观经济学
网址
DOI
10.1016/j.microrel.2023.114903 doi
其它 期刊:Microelectronics Reliability
作者:Jian Wu; Zongguang Yu; Genshen Hong; Xiao Zhiqiang; Luo Jing
出版日期:2023-02-03
求助人
领导范儿 在 2025-12-11 08:41:42 发布自海南,悬赏 10 积分
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