Area-selective atomic layer deposition enabled by competitive adsorption

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标题	Area-selective atomic layer deposition enabled by competitive adsorption
网址	https://avs.scitation.org/doi/am-pdf/10.1116/6.0000497
DOI	10.1116/6.0000497 doi
其它	期刊：Journal of Vacuum Science & Technology A: Vacuum, Surfaces, and Films 作者：Taewon Suh; Yan Yang; Hae Won Sohn; Robert A. DiStasio; James R. Engstrom 出版日期：2020-11-09
求助人	yyq 在 2026-09-09 12:02:16 发布自湖南，悬赏 10 积分
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