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Reliability Improvement of High Mobility Oxide TFTs Based on Hydrogen-Resistant PEALD Al2O3 Gate Insulators Grown with N2O Plasma
网址
https://doi.org/10.1021/acsami.4c18561
DOI
10.1021/acsami.4c18561 doi
其它 期刊：ACS Applied Materials & Interfaces
作者：Sang‐Hyun Kim; Yoon-Seo Kim; Taewon Hwang; Tae Heon Kim; H.S. Koo; et al
出版日期：2025-02-20
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valorain 在 2026-08-27 15:39:16 发布自上海，悬赏 10 积分
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