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 Improving Liquid Film Thickness Uniformity of Semiconductor Etching Equipment Using Flow Field Visualization and CFD Simulation 利用流场可视化和CFD模拟改善半导体刻蚀设备液膜厚度均匀性
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期刊：IEEE Transactions on Semiconductor Manufacturing 作者：Tee Lin; Ming-Hsuan Hu; Omid Ali Zargar; Wei-Hao Lai; Graham Leggett 出版日期：2022-01-29 |
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