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Three-dimensional plasmonic lithography imaging modeling based on the RCWA algorithm for computational lithography
基于计算光刻RCWA算法的三维等离子体成像建模
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期刊:Optics Express 作者:Huwen Ding; Taian Fan; Libin Zhang; Yayi Wei; Tianchun Ye 出版日期:2023-10-12 |
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