Chemically-amplified backbone scission (CABS) resist for EUV lithography

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标题	Chemically-amplified backbone scission (CABS) resist for EUV lithography 用于EUV光刻的化学放大骨架断裂（CABS）抗蚀剂相关领域抵抗极紫外光刻聚合物平版印刷术材料科学激光线宽键裂单体光刻胶光刻高分子化学化学工程光电子学纳米技术化学复合材料光学催化作用有机化学激光器图层（电子）物理工程类
网址	https://doi.org/10.1117/12.2584085
DOI	10.1117/12.2584085 doi
其它	期刊：作者：Theodoros Manouras; Dimitrios Kazazis; Yasin Ekinci 出版日期：2021-03-31
求助人	雪糕在 2025-01-10 21:27:19 发布自上海，悬赏 20 积分
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