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  Review of metal-containing resists in electron beam lithography: perspectives for extreme ultraviolet patterning 电子束光刻中含金属抗蚀剂的研究进展：极紫外图形化的前景
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期刊：Journal of Micro/Nanopatterning Materials and Metrology 作者：Mohammad S. M. Saifullah; Nikhil Tiwale; Ramakrishnan Ganesan 出版日期：2022-06-02 |
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