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[高分]
 专利、报告等 一种基于开尔文结构的点阵超材料设计方法 |
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| 其它 |
专利类型： 发明专利 申请/专利号： CN202510076978.4 申请日期： 2025-01-17 公开/公告号： CN119495386A (关联公开/公告号： CN119495386B ) 公开/公告日： 2025-02-21 主分类号： G16C60/00(2019.01)(物理) 分类号： G16C60/00(2019.01)G06F30/23(2020.01)G06F30/27(2020.01)G06F111/10(2020.01)G06F119/14(2020.01) 申请/专利权人： 浙江大学 发明/设计人： 刘韬符自兴尹冰轮 |
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(2025-6-4)
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