3D target shape retention within selective laser-induced etching (SLE) via simulation of chemical etching

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标题	3D target shape retention within selective laser-induced etching (SLE) via simulation of chemical etching
网址	https://doi.org/10.1117/12.3042062
DOI	10.1117/12.3042062 doi
其它	期刊：Laser-based Micro- and Nanoprocessing XIX 作者：Henry Axt; Martin Kratz; Christian Peters; Benedikt Bornschlegel; Christian Hinke; et al 出版日期：2025
求助人	hearts_j 在 2026-05-15 18:28:36 发布自广东，悬赏 20 积分
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