Thermal Atomic Layer Etching of CoO, ZnO, Fe2O3, and NiO by Chlorination and Ligand Addition Using SO2Cl2 and Tetramethylethylenediamine

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标题	Thermal Atomic Layer Etching of CoO, ZnO, Fe2O3, and NiO by Chlorination and Ligand Addition Using SO2Cl2 and Tetramethylethylenediamine
网址	https://doi.org/10.1021/acs.chemmater.2c03616
DOI	10.1021/acs.chemmater.2c03616 doi
其它	期刊：Chemistry of Materials 作者：Jonathan L. Partridge; Jessica A. Murdzek; Virginia L. Johnson; Andrew S. Cavanagh; Andreas Fischer; et al 出版日期：2023
求助人	waye131 在 2023-02-23 22:19:15 发布自上海，悬赏 10 积分
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