Titanium oxynitride films for surface passivation of crystalline silicon deposited by plasma-enhanced atomic layer deposition to improve electrical conductivity

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标题	Titanium oxynitride films for surface passivation of crystalline silicon deposited by plasma-enhanced atomic layer deposition to improve electrical conductivity 相关领域钝化原子层沉积材料科学氮化硅钛图层（电子）硅等离子体电阻率和电导率沉积（地质）电导率表面电导率化学工程
网址	https://doi.org/10.1016/j.tsf.2019.137752
DOI	10.1016/j.tsf.2019.137752 doi
其它	期刊：Thin Solid Films 作者：Eun-Jin Song; Hyunjin Jo; Se-Hun Kwon; Ji-Hoon Ahn; Jung-Dae Kwon 出版日期：2020-01-31
求助人	yj1506837246 在 2022-08-30 14:33:48 发布自德国，悬赏 10 积分
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