| 标题 |
 Reactive pulsed DC magnetron sputtering deposition of vanadium oxide thin films: Role of pulse frequency on the film growth and properties 相关领域
材料科学
薄膜
溅射沉积
溅射
脉冲激光沉积
分析化学（期刊）
腔磁控管
高功率脉冲磁控溅射
光电子学
X射线光电子能谱
基质（水族馆）
沉积（地质）
氧化物
物理气相沉积
无定形固体
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| 网址 | |
| DOI |
10.1016/j.apsusc.2021.150138
doi
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| 其它 |
期刊：Applied Surface Science 作者：Xiang Dong; Yuanjie Su; Zhiming Wu; Xiangdong Xu; Zihao Xiang; et al 出版日期：2021 |
| 求助人 |
yata
在
2021-05-27 10:08:00 发布，悬赏 10 积分
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