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[高分]
 Phase Shift Mask to Compensate for Mask 3D Effect in High-Numerical-Aperture Extreme Ultraviolet Lithography 相关领域
材料科学
极紫外光刻
光学
平版印刷术
光电子学
抵抗
下一代光刻
极端紫外线
X射线光刻
航空影像
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期刊：Nanoscience and Nanotechnology Letters 作者：Yong Ju Jang; Jung Sik Kim; Seongchul Hong; Jinho Ahn 出版日期：2016-10-01 |
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