12-inch growth of uniform MoS2 monolayer for integrated circuit manufacture

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标题	12-inch growth of uniform MoS2 monolayer for integrated circuit manufacture 用于集成电路制造的12英寸均匀MoS2单层生长相关领域薄脆饼单层材料科学纳米技术半导体化学气相沉积化合物半导体集成电路晶体管半导体器件制造半导体工业硅光电子学电气工程制造工程工程类图层（电子）外延电压
网址	https://doi.org/10.1038/s41563-023-01671-5
DOI	10.1038/s41563-023-01671-5 doi
其它	期刊：Nature Materials 作者：Yin Xia; Xinyu Chen; Jinchen Wei; Shuiyuan Wang; Shiyou Chen; et al 出版日期：2023-09-28
求助人	传统的语柳在 2023-12-13 12:13:12 发布自湖北，悬赏 10 积分
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