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  Effect of films thickness and hydrogen annealing on passivation performance of plasma ALD based Hafnium oxide films 膜厚和氢退火对等离子体ALD基氧化铪膜钝化性能的影响
相关领域
钝化
材料科学
退火（玻璃）
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化学工程
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化学
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期刊：Physica Scripta 作者：Meenakshi Devi; Shweta Tomer; P. Prathap; Vandana Vandana 出版日期：2024-03-14 |
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