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标题
Tantalum-doped tin oxide films as an effective diffusion barrier for copper metallization of silicon heterojunction solar cells
掺钽氧化锡薄膜作为硅异质结太阳能电池铜金属化的有效扩散阻挡层
相关领域
异质结 材料科学 扩散阻挡层 兴奋剂 硅 铜 锡 氧化锡 扩散 钽 太阳能电池 阻挡层 光电子学 氧化物 图层（电子） 纳米技术 冶金 物理 热力学
网址
https://doi.org/10.1016/j.solmat.2025.113681
DOI
10.1016/j.solmat.2025.113681 doi
其它 期刊：Solar Energy Materials and Solar Cells
作者：Kaiyu Chen; Zifeng Yuan; Xuelin Yue; Dong Yi; Yuepeng Li; et al
出版日期：2025-05-08
求助人
12321 在 2025-06-01 09:35:56 发布自浙江，悬赏 10 积分
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