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 Wafer-scale production of patterned transition metal ditelluride layers for two-dimensional metal–semiconductor contacts at the Schottky–Mott limit 肖特基-莫特极限下用于二维金属-半导体接触的图案化过渡金属二碲化物层的晶片规模生产
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期刊：Nature electronics 作者：Seunguk Song; Yeoseon Sim; Se‐Yang Kim; Jung Hwa Kim; Inseon Oh; et al 出版日期：2020-04-06 |
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