Characterization and first-principles insights into the oxidation-removal mechanism of Si (0 0 0 1) and C (0 0 0 −1) surface of 4H-SiC in chemical mechanical polishing

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标题	Characterization and first-principles insights into the oxidation-removal mechanism of Si (0 0 0 1) and C (0 0 0 −1) surface of 4H-SiC in chemical mechanical polishing
网址	https://www.sciencedirect.com/science/article/pii/S016943322...
DOI	10.1016/j.apsusc.2026.167540 doi
其它	期刊：Applications of Surface Science 作者：Jiani Guo; Xin Song; Y. Su; Y. Zou; Ren-Ke Kang; et al 出版日期：2026-01-01
求助人	五音在 2026-10-14 10:46:27 发布自吉林，悬赏 10 积分
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