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[高分]
学位论文 Etude de la gravure du SiN contrôlée a l'échelle atomique par implantation d'O2 suivi de gravure ultra-sélective SiO2/SiN en plasma déporté NF3/NH3 |
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10.70675/a39b7d5az3cd4z4f0bzac54z48dbb1203f3b
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期刊:Agence Bibliographique de l'Enseignement Supérieur 作者:Robert Soriano casero 出版日期:暂无 |
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(2025-6-4)