Advanced processes in metal-oxide resists for high-NA EUV lithography

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标题	Advanced processes in metal-oxide resists for high-NA EUV lithography 用于高钠EUV光刻的金属氧化物抗蚀剂的先进工艺相关领域抵抗极紫外光刻平版印刷术材料科学纳米光刻多重图案下一代光刻金属光电子学氧化物 X射线光刻电子束光刻纳米技术冶金制作病理替代医学医学图层（电子）
网址	https://doi.org/10.1117/12.3010207
DOI	10.1117/12.3010207 doi
其它	期刊：作者：Cong Que Dinh; Seiji Nagahara; Kayoko Cho; Hikari Tomori; Yuhei Kuwahara; et al 出版日期：2024-04-09
求助人	koman 在 2024-06-05 09:06:35 发布自江苏，悬赏 20 积分
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