| 标题 |
 Anisotropic Etching of InP and InGaAs by Using an Inductively Coupled Plasma in Cl2/N2 and Cl2/Ar Mixtures at Low Bias Power 相关领域
感应耦合等离子体
材料科学
等离子体
各向异性
蚀刻（微加工）
光电子学
等离子体刻蚀
光学
物理
纳米技术
量子力学
图层（电子）
|
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊：Journal of the Korean Physical Society 作者：J. W. Bae; Chang-Gyun Jeong; Jong Tae Lim; Hwon‐gi Lee; G.Y. Yeom; et al 出版日期：2007-04-14 |
| 求助人 | |
| 下载 | |
|
温馨提示：该文献已被科研通 学术中心 收录，前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库，收集文献的基本信息（如标题、摘要、期刊、作者、被引量等），不提供下载功能。如需下载文献全文，请通过文献求助获取。
|
PDF的下载单位、IP信息已删除
(2025-6-4)
无极微光
cdercder
嘉心糖
aaaa
失眠的耳机
文静的含蕾
xing_xing
GingerF
Nole
斯文的白玉
科研狗
OK
学术文献互助
牧青
渡人舟
修仙中
aajhajkahna
Kao
坚定尔曼
七听
皖公网安备34019202002308
