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标题
Highly selective GaAs/AlGaAs dry etching using HBr/SF6/He
HBr/SF6/He高选择性GaAs/AlGaAs干法刻蚀
相关领域
咬边 钝化 蚀刻（微加工） 干法蚀刻 材料科学 氢溴酸 光电子学 光刻胶 选择性 图层（电子） 表面粗糙度 腐蚀坑密度 感应耦合等离子体 砷化镓 分析化学（期刊） 化学 等离子体 纳米技术 无机化学 生物化学 物理 量子力学 色谱法 复合材料 催化作用
网址
https://doi.org/10.1116/6.0001181
DOI
10.1116/6.0001181 doi
其它 期刊：Journal of vacuum science and technology
作者：Michael Barrow; S. P. Wright; Sarah Puzycki; Piyush Shah; Robert Bedford; et al
出版日期：2021-08-04
求助人
予怀 在 2025-10-13 13:03:31 发布自北京，悬赏 10 积分
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