| 标题 |
 H2O2 and/or TiO2 photocatalysis under UV irradiation for the removal of antibiotic resistant bacteria and their antibiotic resistance genes 紫外线照射下H2O2和/或TiO2光催化去除抗生素抗性细菌及其抗生素抗性基因
相关领域
细菌
光催化
微生物学
化学
抗生素
抗生素耐药性
基因
辐照
生物
生物化学
核物理学
物理
遗传学
催化作用
|
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊：Journal of Hazardous Materials 作者：Changsheng Guo; Kai Wang; Song Hou; Li Wan; Jiapei Lv; et al 出版日期：2016-10-19 |
| 求助人 | |
| 下载 | 该求助完结已超 24 小时，文件已从服务器自动删除，无法下载。 |
|
温馨提示：该文献已被科研通 学术中心 收录，前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库，收集文献的基本信息（如标题、摘要、期刊、作者、被引量等），不提供下载功能。如需下载文献全文，请通过文献求助获取。
|
PDF的下载单位、IP信息已删除
浮游
eric888
小青椒
彭于彦祖
tuanheqi
子车茗
自信的夜春
LaTeXer
Dean
哆啦的空间站
star
不配.
changping
leaolf
菠菜
小明
勤恳的天亦
GingerF
风清扬
laber
昏睡的蟠桃
pcr163
奋斗的凌青
嗯呢嗯呢
从容芮
Criminology34
生动梦松
ephore
皖公网安备34019202002308
