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 A Schottky-Emitter Electron Source for Wide Range Lithography Applications 一种适用于大范围曝光的Schottky-Escrum电子源
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期刊：Japanese Journal of Applied Physics 作者：Bert Koek; T. Chisholm; Julian P. Davey; J. Romijn; Arnold J. v. Run 出版日期：1993-12-01 |
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