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标题
Impact of high-power impulse magnetron sputtering pulse width on the nucleation, crystallization, microstructure, and ferroelectric properties of hafnium oxide thin films
相关领域
高功率脉冲磁控溅射 材料科学 成核 铁电性 微观结构 溅射沉积 结晶 粒度 分析化学（期刊） 薄膜 溅射 光电子学 电介质 复合材料 纳米技术 化学 有机化学 色谱法
网址
https://doi.org/10.1116/6.0003307
AI链接 osti.gov osti.govdoi.org
DOI
10.1116/6.0003307 doi
其它 期刊：Journal of Vacuum Science & Technology A Vacuum Surfaces and Films
作者：Samantha T. Jaszewski; Shelby S. Fields; Ching‐Chang Chung; Jacob L. Jones; Keithen G. Orson; et al
出版日期：2024-02-01
求助人
端庄冬寒 在 2025-10-13 10:14:20 发布自福建，悬赏 10 积分
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