High-quality AlN epilayers prepared by atomic layer deposition and large-area rapid electron beam annealing

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标题	High-quality AlN epilayers prepared by atomic layer deposition and large-area rapid electron beam annealing 原子层沉积和大面积快速电子束退火制备高质量AlN外延膜相关领域材料科学蓝宝石退火（玻璃）外延透射电子显微镜薄膜光电子学分子束外延电子衍射原子层沉积衍射图层（电子）光学纳米技术复合材料激光器物理
网址	https://doi.org/10.1016/j.matchemphys.2023.127895
DOI	10.1016/j.matchemphys.2023.127895 doi
其它	期刊：Materials chemistry and physics 作者：Wei-Chung Kao; Fong-Jyun Jhong; Yu‐Tung Yin; Hung-Yin Lin; Miin‐Jang Chen 出版日期：2023-08-01
求助人	赖飞阳在 2024-05-16 02:57:53 发布自天津，悬赏 10 积分
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