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Optimization of n+ nc-Si:H and a-SiNx:H layers for their application in nc-Si:H TFT n+ nc-Si:H和a-SiNX:H层在nc-Si:H薄膜晶体管中的应用优化
相关领域
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氮化硅
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期刊:Vacuum 作者:Tamila Anutgan; Mustafa Anutgan; İsmail Atılgan; Bayram Katırcıoğlu 出版日期:2011-01-13 |
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