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标题
Molecular dynamics study of silicon atomic layer etching by chlorine gas and argon ions
氯气和氩离子刻蚀硅原子层的分子动力学研究
相关领域
氩 离子 硅 材料科学 蚀刻（微加工） 通量 氯 原子物理学 分子动力学 辐照 氪 无定形固体 离子束 图层（电子） 分析化学（期刊） 化学 纳米技术 计算化学 光电子学 结晶学 物理 有机化学 色谱法 核物理学 冶金
网址
https://doi.org/10.1116/6.0001681
AI链接 osti.govdoi.org
DOI
10.1116/6.0001681 doi
其它 期刊：Journal of Vacuum Science & Technology B Nanotechnology and Microelectronics Materials Processing Measurement and Phenomena
作者：Joseph R. Vella; David Humbird; David B. Graves
出版日期：2022-02-10
求助人
TianYue778 在 2025-08-29 00:52:13 发布，悬赏 10 积分
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