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  No-heating deposition of ferroelectric epitaxial Hf0.5Zr0.5O2 films using a sputtering method with precise RF power density and thickness control 相关领域
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期刊：Journal of Materiomics 作者：Takanori Mimura; Yoshiko Nakamura; Y. Tsuchiya; K. Okamoto; Hiroshi Funakubo 出版日期：2025-09-01 |
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