| 标题 |
[高分]
Control of power deposition profile for uniform plasma production in microwave and radio frequency ranges 在微波和射频范围内均匀等离子体产生的功率沉积分布的控制
相关领域
螺旋
微波食品加热
等离子体
电子回旋共振
射频功率放大器
无线电频率
材料科学
沉积(地质)
电子
饱和电流
回旋加速器
光学
原子物理学
光电子学
物理
电压
电气工程
放大器
古生物学
CMOS芯片
量子力学
沉积物
工程类
生物
|
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊:Journal de Physique IV (Proceedings) 作者:Y. Yasaka 出版日期:1998-10-01 |
| 求助人 | |
| 下载 | |
|
温馨提示:该文献已被科研通 学术中心 收录,前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库,收集文献的基本信息(如标题、摘要、期刊、作者、被引量等),不提供下载功能。如需下载文献全文,请通过文献求助获取。
|