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 High-throughput fabrication of large-scale metasurfaces using electron-beam lithography with SU-8 gratings for multilevel security printing 利用SU-8光栅的电子束光刻高通量制造大规模超表面用于多级安全印刷
相关领域
抵抗
电子束光刻
平版印刷术
材料科学
电介质
光学
栅栏
制作
光电子学
吞吐量
反射（计算机编程）
纳米技术
计算机科学
物理
图层（电子）
无线
替代医学
程序设计语言
病理
电信
医学
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期刊：Photonics Research 作者：You Sin Tan; Hao Wang; Hongtao Wang; Chengfeng Pan; Joel K. W. Yang 出版日期：2023-02-27 |
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