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标题
An Alkaline-Developable, Chemically Amplified, Negative-Type Photosensitive Poly(benzoxazole) Resist Based on Poly(o-hydroxy amide), an Active Ester-Type Cross-Linker, and a Photobase Generator
一种基于聚（o-羟基酰胺）、活性酯型交联剂和光碱产生剂的碱可显影、化学放大、负型光敏聚（苯并噁唑）抗蚀剂
相关领域
四甲基氢氧化铵 抵抗 酰胺 化学 水溶液 四甲基铵 苯并恶唑 光刻胶 高分子化学 材料科学 有机化学 离子 图层（电子）
网址
https://doi.org/10.1021/ma802349b
DOI
10.1021/ma802349b doi
其它 期刊：Macromolecules
作者：Katsuhisa Mizoguchi; Tomoya Higashihara; Mitsuru Ueda
出版日期：2009-02-03
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