Dependence of the quality of thick resist structures on resist baking

作者
G. Bleidießel,G. Gruetzner,F. Reuther,S. Fehlberg,Bernd Loechel,A. Macioßek
出处
期刊:Microelectronic Engineering [Elsevier BV]
卷期号:41-42: 433-436 被引量:7
标识
DOI:10.1016/s0167-9317(98)00100-2

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