Growth of High-Quality AlN Films through Polarity and Vacancy Defects Control

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标题	Growth of High-Quality AlN Films through Polarity and Vacancy Defects Control 相关领域空位缺陷材料科学极性（国际关系）结晶学光电子学凝聚态物理晶体缺陷化学物理薄膜晶体生长宽禁带半导体相（物质）化学 X射线晶体学
网址	https://doi.org/10.1021/acs.cgd.5c01700
DOI	10.1021/acs.cgd.5c01700 doi
其它	期刊：Crystal Growth & Design 作者：Zheng Zhang; Qingyan Chen; Qingquan Xiao; B. Q. Wang; Tinghong Gao 出版日期：2026-04-06
求助人	美好的访冬在 2026-05-26 16:46:57 发布自北京，悬赏 10 积分
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